Selective Film Formation Mehtod

WO2021220696 Art A1 4. November 2021

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, TOHOKU UNIVERSITY 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021220696
Aktenzeichen: EP21797236
Anmeldetag: 29. März 2021
Veröffentlichung: 4. November 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/28H01L21/285H01L21/316C23C16/02C23C16/04

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
TOHOKU UNIVERSITY
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Tohoku University

Staatliche Universität in Sendai, Japan, mit Forschungsschwerpunkten unter anderem in Materialwissenschaften und Werkstofftechnik.

837 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von