Active light ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, active light ray-sensitive or radiation-sensitive film, mask blank, method for forming pattern, and method for producing electronic device

WO2021220851 Art A1 4. November 2021

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021220851
Aktenzeichen: EP21796549
Anmeldetag: 16. April 2021
Veröffentlichung: 4. November 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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