In-plane magnetized film, in-plane magnetized film multilayer structure, hard bias layer, magnetoresistance effect element, and sputtering target

WO2021221096 Art A1 4. November 2021

Anmelder: TANAKA KIKINZOKU KOGYO K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2021221096
Aktenzeichen
EP21796410
Anmeldetag
28. April 2021
Veröffentlichung
4. November 2021
Rechtsraum
WO
IPC
G11B5/31G11B5/39H01F10/16H01F10/32H01L43/08H01L29/82C23C14/34
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
TANAKA KIKINZOKU KOGYO K.K.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tanaka Kikinzoku Kogyo

Tanaka Kikinzoku Kogyo ist ein japanisches Unternehmen für Edelmetallverarbeitung mit Sitz in Tokio. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt um Fertigungs- und Verfahrenstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2023 ab.

430 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen