Adaptive geometry for optimal focused ion beam etching

WO2021221850 Art A1 4. November 2021

Anmelder: APPLIED MATERIALS ISRAEL LTD., APPLIED MATERIALS, INC. 🇮🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021221850
Aktenzeichen: EP21796352
Anmeldetag: 31. März 2021
Veröffentlichung: 4. November 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/66H01L21/3213H01L21/311H01J37/305H01J37/304G01N1/28H01L21/67

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: APPLIED MATERIALS ISRAEL LTD.
APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇮🇱 Israel

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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