A substrate comprising a target arrangement, and associated at least one patterning device, lithographic method and metrology method

WO2021224009 Art A1 11. November 2021

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021224009
Aktenzeichen: EP21720461
Anmeldetag: 21. April 2021
Veröffentlichung: 11. November 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/47G01N21/95G01N21/956G03F1/42G03F7/20G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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