Metrology targets for high topography semiconductor stacks
WO2021225579
Art A1
11. November 2021
Anmelder: KLA CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021225579
- Aktenzeichen
- EP20934349
- Anmeldetag
- 5. Mai 2020
- Veröffentlichung
- 11. November 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/68H01L21/67H01L23/544
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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