Seamless gap fill with dielectric ald films

WO2021225883 Art A1 11. November 2021

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021225883
Aktenzeichen: EP21800403
Anmeldetag: 30. April 2021
Veröffentlichung: 11. November 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3213H01L21/768H01L21/285C23C16/04C23C16/56

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von