Method for determining blocking ability of copper diffusion barrier layer and structure thereof
WO2021227123
Art A1
18. November 2021
Anmelder: SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS SEMICONDUCTOR 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021227123
- Aktenzeichen
- EP20934951
- Anmeldetag
- 21. Mai 2020
- Veröffentlichung
- 18. November 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/66H01L23/532
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS SEMICONDUCTOR
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
China Star Optoelectronics (CSOT)
Chinesischer Displayhersteller mit Sitz in Shenzhen, Tochtergesellschaft des TCL-Konzerns. CSOT entwickelt und produziert LCD- und OLED-Panels für Fernseher, Monitore und mobile Endgeräte.
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