Tunnel field effect transistor drain end underlap region self-aligning preparation method
WO2021227448
Art A1
18. November 2021
Anmelder: PEKING UNIVERSITY 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021227448
- Aktenzeichen
- EP20935980
- Anmeldetag
- 30. November 2020
- Veröffentlichung
- 18. November 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L29/78H01L29/417H01L21/336H01L29/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- PEKING UNIVERSITY
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Peking University
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