Substrate support system, lithographic apparatus and method of exposing a substrate

WO2021228595 Art A1 18. November 2021

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021228595
Aktenzeichen: EP21722875
Anmeldetag: 3. Mai 2021
Veröffentlichung: 18. November 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01L21/67H01L21/687

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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