Determining metrics for a portion of a pattern on a substrate

WO2021228725 Art A1 18. November 2021

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021228725
Aktenzeichen: EP21726073
Anmeldetag: 7. Mai 2021
Veröffentlichung: 18. November 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G06T7/00G06T7/11

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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