Compound, production method therefor, acid generator, composition, resist film, underlayer film, pattern formation method, and optical component
WO2021230184
Art A1
18. November 2021
Anmelder: THE SCHOOL CORPORATION KANSAI UNIVERSITY, MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021230184
- Aktenzeichen
- EP21804414
- Anmeldetag
- 10. Mai 2021
- Veröffentlichung
- 18. November 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C07C309/06C07C381/12C09K3/00G03F7/004G03F7/039G03F7/11G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- THE SCHOOL CORPORATION KANSAI UNIVERSITY
MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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