Application pressure evaluation method, application pressure evaluation system, and method for setting suitable range in application pressure evaluation system
WO2021230302
Art A1
18. November 2021
Anmelder: SHISEIDO COMPANY, LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021230302
- Aktenzeichen
- EP21804126
- Anmeldetag
- 12. Mai 2021
- Veröffentlichung
- 18. November 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- A45D44/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHISEIDO COMPANY, LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shiseido
Japanisches Kosmetik- und Körperpflegeunternehmen mit Sitz in Tokio, gegründet 1872, eines der ältesten und größten Kosmetikunternehmen der Welt.
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