Methods for designing and fabricating a pupil intensity mask
WO2021230745
Art A1
18. November 2021
Anmelder: TECHNISCHE UNIVERSITEIT DELFT 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021230745
- Aktenzeichen
- EP21727952
- Anmeldetag
- 11. Mai 2021
- Veröffentlichung
- 18. November 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G02B21/00G02B21/36
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TECHNISCHE UNIVERSITEIT DELFT
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
Technische Universiteit Delft
Niederländische Technische Universität in Delft mit breiter Forschung in Ingenieurwissenschaften und angewandter Technik.
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