Abrasive for synthetic quartz glass substrate, method for producing said abrasive, and method for polishing synthetic quartz glass substrate

WO2021235054 Art A1 25. November 2021

Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021235054
Aktenzeichen: EP21809681
Anmeldetag: 12. März 2021
Veröffentlichung: 25. November 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C09G1/02C09K3/14B24B37/00C01F17/241

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von