Coated semiconductor nanoparticles and manufacturing method therefor

WO2021235152 Art A1 25. November 2021

Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021235152
Aktenzeichen: EP21809675
Anmeldetag: 19. April 2021
Veröffentlichung: 25. November 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C01B25/08C09K11/08C09K11/56C09K11/62C09K11/64C09K11/70C09K11/74C09K11/75C09K11/88B82Y20/00B82Y40/00H01L33/48G02B5/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

1.545 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von