Radiation sensitive resin composition, pattern forming method and onium salt compound

WO2021235283 Art A1 25. November 2021

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2021235283
Aktenzeichen
EP21809314
Anmeldetag
12. Mai 2021
Veröffentlichung
25. November 2021
Rechtsraum
WO
IPC
C08F220/10C09K3/00C07D493/04G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20C07D239/47C07D239/54C07D239/553C07D239/557C07D239/96
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
JSR CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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