Radiation sensitive resin composition, pattern forming method and onium salt compound
WO2021235283
Art A1
25. November 2021
Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021235283
- Aktenzeichen
- EP21809314
- Anmeldetag
- 12. Mai 2021
- Veröffentlichung
- 25. November 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08F220/10C09K3/00C07D493/04G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20C07D239/47C07D239/54C07D239/553C07D239/557C07D239/96
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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