Directional selective junction clean with field polymer protections
WO2021236493
Art A1
25. November 2021
Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021236493
- Aktenzeichen
- EP21808145
- Anmeldetag
- 17. Mai 2021
- Veröffentlichung
- 25. November 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/311H01L21/02H01L21/8238H01L21/67H01L21/683H01L21/687H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- APPLIED MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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