Method for generating a layer stack and method for manufacturing a patterned layer stack

WO2021239211 Art A1 2. Dezember 2021

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021239211
Aktenzeichen: EP20728034
Anmeldetag: 25. Mai 2020
Veröffentlichung: 2. Dezember 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/00C23C14/08H01L27/12H01L29/49G02F1/1343

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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