Method for cleaning a vacuum chamber, method for vacuum processing of a substrate, and apparatuses for vacuum processing a substrate

WO2021240210 Art A1 2. Dezember 2021

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021240210
Aktenzeichen: EP20938231
Anmeldetag: 26. Mai 2020
Veröffentlichung: 2. Dezember 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01L51/56H01L51/00C23C14/56C23C16/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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