Semiconductor apparatus manufacturing system and semiconductor apparatus manufacturing method

WO2021240572 Art A1 2. Dezember 2021

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2021240572
Aktenzeichen
EP20938397
Anmeldetag
25. Mai 2020
Veröffentlichung
2. Dezember 2021
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/3065
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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