Method for controlling position of sample in charged particle beam device, program, storage medium, control device, and charged particle beam device

WO2021240801 Art A1 2. Dezember 2021

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021240801
Aktenzeichen: EP20937192
Anmeldetag: 29. Mai 2020
Veröffentlichung: 2. Dezember 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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