Substrate treatment device, substrate treatment method, method for generating training data, learning method, learning device, method for generating trained model, and trained model

WO2021241231 Art A1 2. Dezember 2021

Anmelder: SCREEN HOLDINGS CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2021241231
Aktenzeichen
EP21814065
Anmeldetag
12. Mai 2021
Veröffentlichung
2. Dezember 2021
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/02H01L21/304
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 SCREEN Holdings

Japanischer Technologiekonzern. SCREEN Holdings stellt Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie her, insbesondere Wafer-Reinigungs- und Beschichtungssysteme, sowie Druck- und Bildverarbeitungstechnik.

1.641 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen