Radiation-sensitive resin composition and method for forming pattern

WO2021241246 Art A1 2. Dezember 2021

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021241246
Aktenzeichen: EP21812934
Anmeldetag: 13. Mai 2021
Veröffentlichung: 2. Dezember 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C07D317/72C07D339/06C07D407/12C07D497/10C07D311/00G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20C07D307/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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