Charged particle beam apparatus and focus adjusting method therefor

WO2021250733 Art A1 16. Dezember 2021

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021250733
Aktenzeichen: EP20939477
Anmeldetag: 8. Juni 2020
Veröffentlichung: 16. Dezember 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/21

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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