Composition for chemical mechanical polishing and method for polishing
WO2021251108
Art A1
16. Dezember 2021
Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021251108
- Aktenzeichen
- EP21820861
- Anmeldetag
- 21. Mai 2021
- Veröffentlichung
- 16. Dezember 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C09G1/02C09K3/14B24B37/00H01L21/304
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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