Composition for forming resist underlayer film comprising diol structure

WO2021251482 Art A1 16. Dezember 2021

Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021251482
Aktenzeichen: EP21822713
Anmeldetag: 11. Juni 2021
Veröffentlichung: 16. Dezember 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C08G65/34C08F220/20G03F7/11G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NISSAN CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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