A method for modeling measurement data over a substrate area and associated apparatuses

WO2021254709 Art A1 23. Dezember 2021

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021254709
Aktenzeichen: EP21728476
Anmeldetag: 18. Mai 2021
Veröffentlichung: 23. Dezember 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von