Lithographic apparatus, metrology systems, and methods thereof
WO2021254810
Art A1
23. Dezember 2021
Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V., ASML HOLDING N.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021254810
- Aktenzeichen
- EP21731964
- Anmeldetag
- 7. Juni 2021
- Veröffentlichung
- 23. Dezember 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/20G03F9/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML NETHERLANDS B.V.
ASML HOLDING N.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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