Apparatus and method for patterning a nanostructure in a target material
WO2021256994
Art A1
23. Dezember 2021
Anmelder: NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE 🇸🇬
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2021256994
- Aktenzeichen
- EP21826603
- Anmeldetag
- 11. Juni 2021
- Veröffentlichung
- 23. Dezember 2021
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/20B23K26/00G02B27/28
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE
- Land
- 🇸🇬 Singapur
🇸🇬
National University of Singapore
Staatliche Universität in Singapur, eine der größten und international bestbewerteten Hochschulen Asiens. Sie ist in Forschung und Lehre breit aufgestellt, mit starken Ingenieur- und Naturwissenschaftsfakultäten.
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