Methods of forming microelectronic devices, and related base structures for microelectronic devices

WO2021257236 Art A1 23. Dezember 2021

Anmelder: MICRON TECHNOLOGY, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021257236
Aktenzeichen: EP21826200
Anmeldetag: 20. Mai 2021
Veröffentlichung: 23. Dezember 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01L25/065H01L23/00H01L27/11578H01L27/11551

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MICRON TECHNOLOGY, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von