High Temperature Chemical Vapor Deposition Lid

WO2021257773 Art A1 23. Dezember 2021

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021257773
Aktenzeichen: EP21827002
Anmeldetag: 17. Juni 2021
Veröffentlichung: 23. Dezember 2021
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/44C23C16/505C23C16/455

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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