Batch wafer degas chamber and integration into factory interface and vacuum-based mainframe

WO2021257889 Art A1 23. Dezember 2021

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021257889
Aktenzeichen: EP21826057
Anmeldetag: 17. Juni 2021
Veröffentlichung: 23. Dezember 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/67H01L21/673H01L21/677

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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