High dielectric hydrocarbon thin film, and semiconductor device using same

WO2021261867 Art A1 30. Dezember 2021

Anmelder: THE INDUSTRY&ACADEMIC COOPERATION IN CHUNGNAM NATI, UNIST(ULSAN NATIONAL INSTITUTE OF SCIENCE AND TECH 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021261867
Aktenzeichen: EP21829375
Anmeldetag: 21. Juni 2021
Veröffentlichung: 30. Dezember 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02C23C16/26C23C16/50C23C16/52H01L21/768H01L21/8238

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: THE INDUSTRY&ACADEMIC COOPERATION IN CHUNGNAM NATI
UNIST(ULSAN NATIONAL INSTITUTE OF SCIENCE AND TECH
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 UNIST (Ulsan National Institute of Science and Technology)

UNIST (Ulsan National Institute of Science and Technology) ist eine staatliche südkoreanische Technische Universität in Ulsan. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Software, ergänzt um Medizintechnik und Verfahrenstechnik. Die Anmeldungen aus den Jahren 2018 bis 2025 betreffen unter anderem Dünnschichtverfahren für Katalysatormaterialien.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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