Capacitor using high dielectric hydrocarbon thin film and semiconductor device using same

WO2021261868 Art A1 30. Dezember 2021

Anmelder: UNIST(ULSAN NATIONAL INSTITUTE OF SCIENCE AND TECH, THE INDUSTRY&ACADEMIC COOPERATION IN CHUNGNAM NATI 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021261868
Aktenzeichen: EP21829614
Anmeldetag: 21. Juni 2021
Veröffentlichung: 30. Dezember 2021
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H01L49/02H01L27/108C23C16/22C23C16/52C23C16/50

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: UNIST(ULSAN NATIONAL INSTITUTE OF SCIENCE AND TECH
THE INDUSTRY&ACADEMIC COOPERATION IN CHUNGNAM NATI
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 UNIST (Ulsan National Institute of Science and Technology)

UNIST (Ulsan National Institute of Science and Technology) ist eine staatliche südkoreanische Technische Universität in Ulsan. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Software, ergänzt um Medizintechnik und Verfahrenstechnik. Die Anmeldungen aus den Jahren 2018 bis 2025 betreffen unter anderem Dünnschichtverfahren für Katalysatormaterialien.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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