Enabling Scanning Electron Microscope Imaging While Preventing Sample Damage On Sensitive Layers Used in Semiconductor Manufacturing Processes

WO2021262913 Art A1 30. Dezember 2021

Anmelder: KLA CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2021262913
Aktenzeichen: EP21829057
Anmeldetag: 24. Juni 2021
Veröffentlichung: 30. Dezember 2021
Rechtsraum: WO
IPC: G01N23/2251G01N23/2202H01J37/28H01J37/305H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: KLA CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 KLA Corporation

US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.

1.908 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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