Device and method for regulating and controlling incident angle of light beam in laser interference lithography
WO2022002182
Art A1
6. Januar 2022
Anmelder: TSINGHUA UNIVERSITY, BEIJING U-PRECISION TECH CO., LTD. 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022002182
- Aktenzeichen
- EP21834683
- Anmeldetag
- 1. Juli 2021
- Veröffentlichung
- 6. Januar 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- TSINGHUA UNIVERSITY
BEIJING U-PRECISION TECH CO., LTD. - Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Tsinghua University
Chinesische Universität mit Sitz in Peking, eine der führenden Forschungshochschulen des Landes. Aktiv in Ingenieurwissenschaften, Informatik, Materialwissenschaften und Naturwissenschaften sowie in zahlreichen technischen Anwendungsfeldern.
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