Method for operating a chamber, apparatus for processing a substrate, and substrate processing system
WO2022002382
Art A1
6. Januar 2022
Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022002382
- Aktenzeichen
- EP20743968
- Anmeldetag
- 1. Juli 2020
- Veröffentlichung
- 6. Januar 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C16/44C23C16/46C23C16/48C23C14/54H01L21/67
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- APPLIED MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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