Method and apparatus for processing a lithographic mask

WO2022002728 Art A1 6. Januar 2022

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022002728
Aktenzeichen: EP21735927
Anmeldetag: 23. Juni 2021
Veröffentlichung: 6. Januar 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/72G03F1/74H01J37/30

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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