Method and apparatus for setting a side wall angle of a pattern element of a photolithographic mask

WO2022002931 Art A1 6. Januar 2022

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022002931
Aktenzeichen: EP21737639
Anmeldetag: 29. Juni 2021
Veröffentlichung: 6. Januar 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/24G03F1/50G03F1/74G03F1/86G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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