Method for manufacturing abrasive grains, composition for chemical mechanical polishing and method for chemical mechanical polishing

WO2022004197 Art A1 6. Januar 2022

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022004197
Aktenzeichen: EP21832659
Anmeldetag: 25. Mai 2021
Veröffentlichung: 6. Januar 2022
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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