Chemically amplified photosensitive composition, photosensitive dry film, method for manufacturing plating mold-attached substrate, and method for manufacturing plated object

WO2022004290 Art A1 6. Januar 2022

Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022004290
Aktenzeichen: EP21832484
Anmeldetag: 7. Juni 2021
Veröffentlichung: 6. Januar 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C25D5/02G03F7/004G03F7/039G03F7/20G03F7/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von