Mask blank, phase-shift mask, method of manufacturing phase-shift mask, and method of manufacturing semiconductor device

WO2022004350 Art A1 6. Januar 2022

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022004350
Aktenzeichen: EP21832167
Anmeldetag: 15. Juni 2021
Veröffentlichung: 6. Januar 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/32

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

701 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von