Plasma Chamber Target For Reducing Defects in Workpiece During Dielectric Sputtering

WO2022005686 Art A1 6. Januar 2022

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022005686
Aktenzeichen: EP21832605
Anmeldetag: 3. Juni 2021
Veröffentlichung: 6. Januar 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C23C14/08C23C14/56H01J37/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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