Vapor Phase Photoresists Deposition

WO2022005877 Art A1 6. Januar 2022

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022005877
Aktenzeichen: EP21833346
Anmeldetag: 24. Juni 2021
Veröffentlichung: 6. Januar 2022
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/16G03F7/004C23C16/455C23C16/30

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

10.783 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von