Vertical marangoni wafer processing device
WO2022007538
Art A1
13. Januar 2022
Anmelder: HWATSING TECHNOLOGY CO., LTD., TSINGHUA UNIVERSITY 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022007538
- Aktenzeichen
- EP21837264
- Anmeldetag
- 31. Mai 2021
- Veröffentlichung
- 13. Januar 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/67
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- HWATSING TECHNOLOGY CO., LTD.
TSINGHUA UNIVERSITY - Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Tsinghua University
Chinesische Universität mit Sitz in Peking, eine der führenden Forschungshochschulen des Landes. Aktiv in Ingenieurwissenschaften, Informatik, Materialwissenschaften und Naturwissenschaften sowie in zahlreichen technischen Anwendungsfeldern.
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