Verfahren zum Erzeugen eines Gasvorhangs aus Spülgas in einem Schlitzventil-Tunnel und Schlitzventil-Tunnel

WO2022008209 Art A1 13. Januar 2022

Anmelder: SILTRONIC AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022008209
Aktenzeichen: EP21733133
Anmeldetag: 18. Juni 2021
Veröffentlichung: 13. Januar 2022
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/677C23C16/455H01L21/67F16K3/02H01J37/32F16K51/02C23C16/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SILTRONIC AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Siltronic

Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Maschinenelemente & Fluidtechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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