Cover member for plasma processing device, plasma processing, and membrane production method

WO2022009340 Art A1 13. Januar 2022

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022009340
Aktenzeichen: EP20944758
Anmeldetag: 8. Juli 2020
Veröffentlichung: 13. Januar 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C23C4/10C23C4/134C23F4/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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