Photosensitive resin composition and cured resin film obtained therefrom
WO2022009676
Art A1
13. Januar 2022
Anmelder: SHOWA DENKO K.K. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2022009676
- Aktenzeichen
- EP21837210
- Anmeldetag
- 23. Juni 2021
- Veröffentlichung
- 13. Januar 2022
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08F230/08G03F7/004G03F7/027G03F7/031G03F7/038G03F7/075
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHOWA DENKO K.K.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Showa Denko
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.
3.077 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.