Composition for forming lithography film, resist pattern forming method, and circuit pattern forming method

WO2022009948 Art A1 13. Januar 2022

Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2022009948
Aktenzeichen: EP21838413
Anmeldetag: 8. Juli 2021
Veröffentlichung: 13. Januar 2022
Rechtsraum: WO
IPC: C07C39/14C07C43/23C08G8/00C08G8/20G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/11G03F7/20G03F7/40H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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